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J-GLOBAL ID：201602264318662180   整理番号：16A0584581

同時応用特集壁コーティングと2周波数加熱によるE CRイオン源における高電荷状態イオンの産生増強【Powered by NICT】

Enhanced Production of High-Charge-State Ions in ECRIS by Simultaneously Applied Special Wall Coating and Two-Frequency Heating

著者 (3件)： Schachter L. (Nat. Inst. for Phys. & Nucl. Eng., Bucharest, Romania) ,  Stiebing K. E. (Inst. fur Kernphys. der Johann Wolfgang, Goethe Univ., Frankfurt, Germany) ,  Dobrescu S. (Nat. Inst. for Phys. & Nucl. Eng., Bucharest, Romania)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 44  号： 4  ページ： 582-586  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二周波数加熱(DFH)における体積効果の性能を向上させるために特化した研究は,Institut FU ̈のフランクフルト14GHz ECRIS R Kernphysik),Goethe大学フランクフルト,ドイツで実施した。この目的のために,プラズマの電子密度と温度は著者らが開発した確立されたMD法を適用することにより増強された。クライストロン送信機から注入された標準RF周波数(14.3 GHz)に加えて,第二RF頻度はTWT送信機からの第二の導波管によるECRISのプラズマ室に注入し,13~15GHzの範囲で注入された周波数の変動を可能にした。ほぼ重なり共鳴帯を用いて,800MHzの周波数ギャップは,DFHで通常使用される1.5GHzの最小ギャップ幅とは対照的に使用されてきた。MD法を適用クライストロン,二つのよく分離した共鳴領域を持つDFHを用いた以前の実験で測定された増強を明らかに越える値から700Wの基本注入TWTから150WのRF電力を添加することにより5の因子により抽出されたAr¹⁴⁺イオンビームの強度の増加を可能にした。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： プラズマ ,  *周波数 ,  電力 ,  電子密度 ,  *イオン源 ,  導波路 ,  ECRイオン源 ,  クライストロン ,  *イオン ,  共鳴 ,  ドイツ連邦共和国 ,  送信機 ,  共鳴領域
準シソーラス用語： *荷電状態 ,  *二周波 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： プラズマ温度 ,  イオン源 ,  磁気閉込め ,  microwawe増幅器 ,  プラズマ閉じ込め ,  プラズマ安定性

分類 (2件)： プラズマ中の電磁波  (BJ02032F) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 応用 ,  コーティング ,  2周波数 ,  Crイオン ,  電荷状態 ,  イオン ,  増強