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J-GLOBAL ID：201602273056494300   整理番号：14A0105163

Investigation on the coherence of undulator source and soft X-ray interference lithography beamline in SSRF

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著者 (5件)：
Guo Chunlei

Guo Chunlei について

(Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai)

Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai について

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Meng Xiangyu

Meng Xiangyu について

(Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai)

Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai について

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Wu Yanqing

Wu Yanqing について

(Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai)

Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai について

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Wang Yong

Wang Yong について

(Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai)

Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai について

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Tai Renzhong

Tai Renzhong について

(Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai)

Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Jiading Campus, Shanghai について


資料名：
He Jishu  (He Jishu)

He Jishu について


巻： 36  号： 9  ページ： 090101-1-090101-8  発行年： 2013年 
JST資料番号： C2034A  ISSN： 0253-3219  CODEN： NUTEDL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

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