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J-GLOBAL ID：201602277746348376   整理番号：16A0483431

明日の科学と社会の発展に貢献する計測・分析技術 モバイル機器の最先端電子部品における膜厚計測ニーズに対応-高性能蛍光X線膜厚計FT150シリーズ-

著者 (4件)： 高橋春男 (日立ハイテクサイエンス) ,  泉山優樹 (日立ハイテクサイエンス) ,  廣瀬龍介 (日立ハイテクサイエンス) ,  高原稔幸 (日立ハイテクサイエンス)
資料名： 日立評論
巻： 98  号： 5  ページ： 364-367  発行年： 2016年05月01日 
JST資料番号： F0062A  ISSN： 0367-5874  CODEN： HITAA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 蛍光X線分析によるめっき膜厚の計測は,非破壊・非接触で多層膜を同時に測定可能な方法であり,電子部品などのめっき膜厚計測用途で広く用いられている。微小化する測定部位の計測を行うには,照射するX線を細く絞る必要がある。高性能蛍光X線膜厚計FT150シリーズでは,従来のコリメータ方式に代わり,ポリキャピラリX線集光素子を用いることで,試料に照射するX線の強度を1,000倍程度に高めることが可能となり,数十マイクロメートル領域でのナノメートルレベルのめっき膜厚測定のニーズに応えている。本稿では,いくつかの典型的な試料での実測例を通じて,達成された測定精度を紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *厚み計 ,  蛍光X線分析 ,  *厚み測定 ,  膜厚 ,  めっき皮膜 ,  測定精度 ,  *蛍光X線厚さ計 ,  *膜厚計測
準シソーラス用語： *膜厚測定

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (3件)：

• JIS H 8501:1999,めっきの厚さ試験方法,日本工業規格
• 波岡,外:X線結像光学,培風館(1999.7)
• 泉山,外:51回X線分析討論会講演要旨集(2015.10)

タイトルに関連する用語 (13件)： 科学 ,  社会 ,  発展 ,  計測 ,  分析技術 ,  モバイル機器 ,  最先端 ,  電子部品 ,  膜厚計測 ,  ニーズ ,  高性能 ,  蛍光X線 ,  膜厚計