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J-GLOBAL ID：201602279525802308   整理番号：16A0806381

軟UV照射によるグラフェン酸化膜の還元【Powered by NICT】

Reduction of the graphene oxide films by soft UV irradiation

著者 (9件)： Rabchinskii M. K. (Ioffe Institute, Saint-Petersburg, Russia) ,  Dideikin A. T. (Ioffe Institute, Saint-Petersburg, Russia) ,  Baidakova M. V. (Ioffe Institute, Saint-Petersburg, Russia) ,  Shnitov V. V. (Ioffe Institute, Saint-Petersburg, Russia) ,  Pronin I. I. (Ioffe Institute, Saint-Petersburg, Russia) ,  Kirilenko D. A. (Ioffe Institute, Saint-Petersburg, Russia) ,  Brunkov P. N. (Ioffe Institute, Saint-Petersburg, Russia) ,  Walter J. (TU Bergakademie Freiberg, Freiberg, Germany) ,  Molodtsov S. L. (ITMO University, Saint-Petersburg, Russia)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： LO  ページ： R10-7  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄いグラフェン酸化物膜のUV還元プロセス,エタノール懸濁液からシリコン基板上に堆積したを研究した。得られた材料の化学構造をXPS法で解析した。TEM画像は,還元プロセスの間の正孔形成,ネットワークに接続されていることを示した。観察された構造をもつ膜は非常に多様な可能性のある将来の用途,ガスセンサと種々の有機/無機nanocompisitesなどを有している。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 懸濁液 ,  画像 ,  *グラフェン ,  正孔 ,  *酸化膜 ,  ネットワーク ,  X線光電子分光法 ,  *紫外線照射 ,  ガスセンサ ,  脂肪族アルコール
準シソーラス用語： 化学構造 ,  シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： パターン認識  (JE07000S) ,  移動通信  (ND08030H) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

物質索引 (1件)： エタノール

タイトルに関連する用語 (4件)： UV照射 ,  グラフェン ,  酸化膜 ,  還元