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J-GLOBAL ID：201602281910162679   整理番号：16A0614863

CDSEM計測によるX-Y方向におけるフォトレジスト収縮差の特性化【Powered by NICT】

The characterization of photoresist shrinkage difference in X-Y directions with CDSEM metrology

著者 (4件)： He Weiming (Technology R&D, Semiconductor Manufacturing International Corp., Pudong New Area, Shanghai, P. R. China 201203) ,  Shi Xuelong (Technology R&D, Semiconductor Manufacturing International Corp., Pudong New Area, Shanghai, P. R. China 201203) ,  Hu Huayong (Technology R&D, Semiconductor Manufacturing International Corp., Pudong New Area, Shanghai, P. R. China 201203) ,  Wu Qiang (Technology R&D, Semiconductor Manufacturing International Corp., Pudong New Area, Shanghai, P. R. China 201203)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： CSTIC  ページ： 1-4  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： IC産業を連続的にスケールダウン臨界寸法(CD)とともに前進として,インラインCD誤差収支は,デバイス要求を満たすために緊密になっており,それ故CD測定のためのその性能要件もより厳しい。またCD計測(CD-SEM)のための走査電子顕微鏡は,インライン生産中のCD測定と光近接効果補正(OPC)のモデル設定のためのオフラインCDデータコレクションのための主流計測ツールとなっている。多くの論文で報告されていると産業へのよく知られているように,CD計測の正確さと精度に大きく影響するのでフォトレジスト(PR)収縮後発達検査(ADI)CD測定中の大きな課題となっている。本論文では,CDSEMを持つ二次元(2D)特性を測定するとき,電子ビーム照射の曝露下で異なる速度でPR X-Y収縮約1興味ある現象に焦点を当てた。先端デバイスの現在の応用は,ますます複雑な2D構造,生産またはOPCモデル創成時の効率的で精度CD計測を必要とする。ArFまたはArF液浸プロセスにおける正方形2D特徴の測定中に,ADI画像で約2~8nm X-Y CD差は,CDSEMはX-Y倍率と非点収差に対して校正した。回転90度,X-Y方向で見られるのと同じCD差による同一ウエハの隣接曝露ショットにおける上記の結果を確認した。Plus,エッチング検査(AEI)後のインラインウエハを検証したが,著明なX-Y CD差を認めなかった。これらの事実は,上記X-Y CD差は測定自体とADIプロセスに特化すべきであることを1階を述べた。ADIおよびAEI分割を用いて異なる基板上に基づく精巧なDOE一連の実験後,基礎となる機構を明らかにした。著者らの研究の結果を提示し,議論する。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  非点収差 ,  *キャラクタリゼーション ,  粒状材 ,  二次元 ,  浸漬 ,  データ収集 ,  エッチング ,  電子照射 ,  *フォトレジスト
準シソーラス用語： フッ化アルゴン ,  オフライン ,  光近接効果補正 ,  臨界寸法 ,  スケールダウン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： パターン認識  (JE07000S) ,  数値計算  (JE02000J) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 計測 ,  y方向 ,  フォトレジスト ,  収縮 ,  特性化