文献

J-GLOBAL ID：201602292000134946   整理番号：16A0735611

PECVDアモルファスシリコン薄膜の均一性の制御方法の研究を調製した。【JST・京大機械翻訳】

Study on Uniformity Control of Amorphous Silicon Thin Films by PECVD

著者 (5件)： Chen Dejun (School of Optoelectronic Information,University of Electronic Science and Technology of China) ,  Liu Shuang (School of Optoelectronic Information,University of Electronic Science and Technology of China) ,  Liu Yong (School of Optoelectronic Information,University of Electronic Science and Technology of China) ,  He Cunyu (Chengdu Yanbai Technology Co.Ltd) ,  Yin Panwei (School of Optoelectronic Information,University of Electronic Science and Technology of China)
資料名： Bandaoti Guangdian  (Bandaoti Guangdian)
巻： 36  号： 6  ページ： 951-953  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2379A  ISSN： 1001-5868  CODEN： BAGUE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： アモルファスシリコン薄膜を調製するためのPECVD装置のチャンバの流体に対してシミュレーションを行った。シミュレーション,そして対応する条件下でのアモルファスシリコン薄膜を調製した。実験は,段差計を用いて薄膜の厚さの測定,比較シミュレーション結果を完成させた。薄膜の厚さ分布の場合は基板表面近傍の気流分布状況と密接に関連していることが見出されている,2.5%のA-SI:H薄膜よりも優れた均一性を得た。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  シミュレーション ,  *制御方式 ,  *プラズマCVD ,  *非晶質
準シソーラス用語： 気流分布 ,  チャンバ ,  *シリコン薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： amorphous silicon thin film ,  PECVD ,  uniformity

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： PECVD ,  アモルファス ,  シリコン薄膜 ,  均一性 ,  研究 ,  調製