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J-GLOBAL ID：201702210081198688   整理番号：17A0325231

太陽光支援水素発生反応のためのMoO_xナノ粒子によるけい素表面の自発的修飾【Powered by NICT】

Spontaneous decoration of silicon surfaces with MoO_x nanoparticles for the sunlight-assisted hydrogen evolution reaction

著者 (7件)： Truong T.-G. (Institut des Sciences Chimiques de Rennes, UMR 6226 CNRS, Matiere Condensee et Systemes Electroactifs (MaCSE), Universite de Rennes 1, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes Cedex, France. [e-mail] [e-mail]) ,  Meriadec C. ,  Fabre B. ,  Bergamini J.-F. ,  de Sagazan O. ,  Ababou-Girard S. ,  Loget G.
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 9  号： 5  ページ： 1799-1804  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MoS_4~II水溶液中での酸化物フリーSi表面の浸漬を単離しMoO_xナノ粒子(NP)との自然修飾を誘導する。プロセスは汎用性があり,平面Si(100)と同様に反射防止Si(111)ピラミッド(SimPy)アレイを用いた。NP修飾は可視領域で表面の光学的性質に影響を与えず,模擬太陽光下での水素発生反応(HER)の性能を改善する。単純性と技術のスケーラビリティは,触媒的に活性な光電極を作製するための高度に有望なものにしている。より具体的には,MoO_x修飾SimPyは 0.35V対RHEで90%以上のファラデー効率で11μmol cm~ 2分~ 1の割合でH_2を生成した。さらに,このプロセスは,高性能電子デバイスの他の応用のための非常に興味深いものとなりうる。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 水溶液 ,  汎用性 ,  *水素発生反応 ,  光電極 ,  *ナノ粒子 ,  浸漬 ,  角錐 ,  *ケイ素 ,  単離 ,  *太陽光
準シソーラス用語： 電子素子 ,  模擬太陽 ,  可視領域 ,  反射防止 ,  シリコン(100) , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 二次電池  (YB04030K) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： 太陽光 ,  支援 ,  水素発生反応 ,  ナノ粒子 ,  けい素 ,  修飾