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J-GLOBAL ID:201702210154446342   整理番号:17A0398712

ほう素とその優れた容量挙動の高濃度ほう素と窒素を共にドープした多孔質炭素【Powered by NICT】

Boron and nitrogen co-doped porous carbon with a high concentration of boron and its superior capacitive behavior
著者 (7件):
資料名:
巻: 113  ページ: 266-273  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0270B  ISSN: 0008-6223  CODEN: CRBNA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,ホウ素(3.97 wt%)と窒素(12.10 wt%)の比較的高い含有量のホウ素と窒素を同時ドープした階層的多孔質炭素(BN HPC)は窒素とホウ素源としてメラミンとホウ酸を用いた階層的多孔質樹脂の鋳型過程と炭化と組み合わせた法により合成した。共ドーピング法は,ホウ素のドーピング効率を増加させるのに非常に重要である高ホウ素ドーピングレベル(単一のホウ素をドープした試料のそれの8倍)を達成した。階層的多孔性,構造および表面化学特性を種々の方法,透過型電子顕微鏡,N_2収着,X線回折,X線光電子分光法および元素分析などにより詳細に調べ,などがある。階層的多孔性とヘテロ原子ドーピングの相乗効果に起因して,BN HPCは0.1Ag~( 1)と良好なレート能力(189Fg~( 1)は10Ag~( 1)の電流密度を維持した)の電流密度で304Fg~( 1)の大きく改善された電気化学的容量性能を示した。合成の戦略は容易であり,非常に有効であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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炭素とその化合物 
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