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J-GLOBAL ID：201702210841397774   整理番号：17A0310955

CuO/ZnO光触媒を用いた亜ひ酸塩の光触媒酸化と同時除去【Powered by NICT】

Photocatalytic oxidation and simultaneous removal of arsenite with CuO/ZnO photocatalyst

著者 (6件)： Samad Abdus (Department of Chemistry for Materials, Graduate School of Engineering, Mie University, Tsu, Mie 514-8507, Japan) ,  Furukawa Mai (Department of Chemistry for Materials, Graduate School of Engineering, Mie University, Tsu, Mie 514-8507, Japan) ,  Katsumata Hideyuki (Department of Chemistry for Materials, Graduate School of Engineering, Mie University, Tsu, Mie 514-8507, Japan) ,  Suzuki Tohru (Mie Global Environment Center for Education & Research, Mie University, Tsu, Mie 514-8507, Japan) ,  Kaneco Satoshi (Department of Chemistry for Materials, Graduate School of Engineering, Mie University, Tsu, Mie 514-8507, Japan) ,  Kaneco Satoshi (Mie Global Environment Center for Education & Research, Mie University, Tsu, Mie 514-8507, Japan)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 325  ページ： 97-103  発行年： 2016年07月01日 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高濃度合成水溶性As溶液中の亜ヒ酸塩の光触媒酸化と同時除去を検討した。プロセスは中性pH付近でUV照射下でのCuO/ZnOナノ粒子を用いて行った。処理効率に及ぼすCuO添加,初期亜ヒ酸塩濃度,光触媒負荷の影響を調べた。触媒表面へのヒ素の吸着はFourier変換赤外分光法(FTIR)およびX線光電子分光法(XPS)で評価した。バッチの結果は,CuOはZnOの光触媒性能に重要な影響を持つことを示した。CuO(20%)/ZnO光触媒酸化の速度定数は純粋なZnOで得られたものより4倍良好であった。ひ素の除去量(mgg~( 1))は,初期ヒ素濃度の増加と共に増加した。として30mgl~( 1)の(III)溶液を10時間照射時間中の0.67gL~( 1)の光触媒を完全に除去することができた。光触媒酸化と同時除去により最大As(III)除去量は暗所での吸着で観察されたものと比較して6.5倍大きかった。優れた光触媒酸化と高い取込性能をCuO/ZnOを作る高ヒ素汚染水からAs(III)を除去するための潜在的に魅力的な候補である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ナノ粒子 ,  *亜ヒ酸塩 ,  X線光電子分光法 ,  *酸化第二銅 ,  *酸化亜鉛 ,  *触媒 ,  触媒活性 ,  紫外線照射 ,  *光触媒 ,  ヒ素 ,  水溶性
準シソーラス用語： 速度定数 ,  中性 ,  *同時除去 ,  *光触媒酸化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Photocatalyst ,  ひ素 ,  酸化 ,  吸着 ,  Removal

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (6件)： CuO ,  ZnO ,  光触媒 ,  亜ひ酸塩 ,  光触媒酸化 ,  同時除去