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J-GLOBAL ID：201702211148291878   整理番号：17A0469706

光照射下での光酸化と吸着による磁気CuO Fe_3O_4ナノ粒子による効率的なAs(III)の除去【Powered by NICT】

Efficient As(III) removal by magnetic CuO-Fe₃O₄ nanoparticles through photo-oxidation and adsorption under light irradiation

著者 (7件)： Sun Tianyi (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, School of Municipal & Environmental Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, China) ,  Zhao Zhiwei (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, School of Municipal & Environmental Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, China) ,  Zhao Zhiwei (Department of National Defense Architecture Planning and Environmental Engineering, Logistical Engineering University, Chongqing 401311, China) ,  Liang Zhijie (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, School of Municipal & Environmental Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, China) ,  Liu Jie (Department of National Defense Architecture Planning and Environmental Engineering, Logistical Engineering University, Chongqing 401311, China) ,  Shi Wenxin (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, School of Municipal & Environmental Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, China) ,  Cui Fuyi (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, School of Municipal & Environmental Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, China)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 495  ページ： 168-177  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい二官能性CuO Fe_3O_4磁性材料を合成し,特性化,光酸化および吸着を通したAs(III)を除去した。As(III)除去へのAs(III)の光酸化,CuO Fe_3O_4ナノ粒子の吸着特性,溶液pHの影響,イオン強度および共存イオンを調べた。光照射下で,As(III)は光酸化反応において60分以内にCuO Fe_3O_4ナノ粒子による毒性の低いAs(V)へ完全に酸化することができた。同時に,As(V)は高効率でナノ粒子の表面に吸着することができた。As(V)の吸着は,擬二次モデルとFreundlich等温線モデルに適合し,ナノ粒子の最大吸着容量はpH=7.0で118.11mg/gであった。As(III)は,4年から8年までの初期pH範囲でCuO Fe_3O_4ナノ粒子により効果的に除去できた。調べ,塩化物及び硫酸塩を除く全ての通常の共存イオンの中で,炭酸塩,けい酸塩およびりん酸塩は,吸着座に対するヒ素種との競合により,As(III)除去を低下させた。合成された磁性CuO Fe_3O_4はCuOの光触媒特性とCuOとFe_3O_4の高い吸着容量,ヒ素廃水の処理における重要な応用の可能性があることを組み合わせた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ケイ酸塩 ,  *酸化第二銅 ,  *吸着 ,  *ナノ粒子 ,  *ヒ素 ,  硫酸塩 ,  イオン強度 ,  *光酸化 ,  等温線 ,  *磁気 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： 触媒特性 ,  吸着容量 ,  高効率 ,  吸着特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： CuO Fe_3O_4ナノ粒子 ,  光酸化 ,  吸着 ,  As(III) ,  As(V) ,  磁気分離

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光照射 ,  光酸化 ,  吸着 ,  磁気 ,  CuO ,  ナノ粒子