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J-GLOBAL ID：201702213871693199   整理番号：17A0752177

[Rh₆(NO)_n]^q+(n=0~7)(q=0,1)に関する構造および反応性の被覆および電荷依存性: 計算研究

Coverage and charge dependence of structures and reactivity on [Rh₆(NO)_n]^q+ (n=0-7)(q=0, 1): A computational study

著者 (2件)： ICHINO Tomoya (Hokkaido Univ.) ,  MAEDA Satoshi (Hokkaido Univ.)
資料名： 化学反応討論会講演要旨集  (Book of Abstracts. Symposium on Chemical Kinetics and Dynamics)
巻： 33rd  ページ： 90  発行年： 2017年06月07日 
JST資料番号： S0878B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 自動車 ,  *ロジウム触媒 ,  *酸化窒素 ,  還元 ,  *クラスタ分子 ,  吸着 ,  錯体生成 ,  ロジウム錯体 ,  活性化 ,  脱着 ,  *反応性 ,  *分子構造 ,  エネルギー分布 ,  被覆 ,  依存性 ,  電荷 ,  密度汎関数法 ,  数値解析
準シソーラス用語： 錯体形成 ,  脱離

分類 (3件)： 有害ガス処理法  (SC04030H) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (6件)： NO ,  反応性 ,  電荷 ,  依存性 ,  計算 ,  研究