文献

J-GLOBAL ID：201702214318368201   整理番号：17A0453885

直接微細パターン形成のためのUV照射によるポリイミド(PI)フィルムの表面改質

Surface Modification of Polyimide (PI) Films by UV Irradiation for Direct Fine Patterning

著者 (6件)： OO Aung Myin (Kanto Gakuin Univ.) ,  KUTSUNAI Koji (Kanto Gakuin Univ.) ,  UMEDA Yasushi (Kanto Gakuin Univ.) ,  WATANABE Mitsuhiro (Kanto Gakuin Univ.) ,  HONMA Hideo (Kanto Gakuin Univ.) ,  TAKAI Osamu (Kanto Gakuin Univ.)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 135th  ページ： 126-127  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ポリイミド ,  *有機材料 ,  *紫外線照射 ,  表面改質 ,  パターン形成 ,  状態 ,  引張強さ ,  劣化 ,  *有機薄膜 ,  化学的状態 ,  機械的性質 ,  強度
準シソーラス用語： 化学状態

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 微細パターン形成 ,  UV照射 ,  ポリイミド ,  pI ,  フィルム ,  表面改質