抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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トンネル電界効果トランジスタ(TFET)は,その低いleakagecurrentと優れたしきい値スイングによる低パワーエレクトロニクスにおけるoutperformMOSFETsことができる。近年,サブスレッショルドコアの設計におけるTFETのtheapplicationを提案し,百ミリボルトで動作する照合。Howeverprocess誘起変化は,このような低電圧でTFETの達成可能な利点をassessingtheが考慮する必要がある。,分布および調節ofsuch低電源電圧に関係する非理想性をモデル化する必要がある。AlGaSb/InAs Hetrojunction TFET(HTFET),InAs/Si HTFETsとMOFETsから成るdigitaldesignのデバイスperformancemetrics(エネルギー消費,動作周波数)に及ぼすプロセス変動効果の解析をpresentthe。calibratedTFETコンパクトモデルに基づく著者らの評価は,TFET回路はプロセス変動からMOSFETよりもlessaffectedことを示した。TFETとCMOSのエネルギー遅延積を比較し,プロセス変動と電源電圧雑音を考慮した。さらに,低電圧,分散ディジタルLowDropアウト(LDO)に基づく低リプル供給distributionforサブ閾値TFETブロックの実現可能性研究を提示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】