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J-GLOBAL ID：201702216437631841   整理番号：17A0750068

電磁干渉遮蔽のための多孔質polyimide/in situ還元グラフェン酸化物複合膜の作製【Powered by NICT】

Preparation of porous polyimide/in-situ reduced graphene oxide composite films for electromagnetic interference shielding

著者 (4件)： Yang Hongli (State Key Laboratory of Polymer Materials Engineering, Polymer Research Institute of Sichuan University, Chengdu, 610065, China) ,  Li Zhonglun (State Key Laboratory of Polymer Materials Engineering, Polymer Research Institute of Sichuan University, Chengdu, 610065, China) ,  Zou Huawei (State Key Laboratory of Polymer Materials Engineering, Polymer Research Institute of Sichuan University, Chengdu, 610065, China) ,  Liu Pengbo (State Key Laboratory of Polymer Materials Engineering, Polymer Research Institute of Sichuan University, Chengdu, 610065, China)
資料名： Polymers for Advanced Technologies  (Polymers for Advanced Technologies)
巻： 28  号： 2  ページ： 233-242  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0503A  ISSN： 1042-7147  CODEN： PADTE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 軽量多孔性ポリイミド(PI)/還元グラフェン酸化物(RGO)複合膜を調製するための容易で効率的な方法を報告した。最初に,多孔質ポリ(アミド酸)(PAA)/グラフェン酸化物(GO)複合膜を非溶媒誘起相分離(NIPS)プロセスを介して調製した。その後PAAはPI熱イミド化を通してに変換し,同時にPAAマトリックス中に分散したGOはin situ RGOへの熱的に還元された。熱イミド化と同じ熱処理プロセスを受けているGOを,熱重量分析,Ramanスペクトル,X線光電子分光法およびX線回折によって特性化GOは熱イミド化プロセス中にその場還元さだったことを示した。,8wt%のGOを有する元のPAA/GO複合材料から調製した,得られた多孔質PI/RGO複合膜(500μm厚さ)は0.015Sm~ 1の有効電気伝導率と優れた比遮蔽効率値693dB cm~2g~( 1)を示した。添加では,多孔質PI/RGO複合材料フィルムの熱安定性もまた劇的に増強された。多孔質PI膜のものと比較して,上記の複合膜の5%重量損失温度は525°Cから538°Cまで改善された。更に,引張試験は,上記の複合膜は,6.97MPaの引張強さと545MPaのYoung率を有していたことを示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： イミド化 ,  *複合膜 ,  電気伝導率 ,  X線回折 ,  *多孔性 ,  複合フィルム ,  引張強さ ,  キャラクタリゼーション ,  *還元 ,  熱安定性 ,  Ramanスペクトル ,  Young率 ,  複合材料 ,  熱重量分析 ,  *酸化グラフェン ,  機械的性質 ,  強度

著者キーワード (5件)： 電磁干渉遮蔽 ,  グラフェン酸化物 ,  その場還元 ,  ポリイミド ,  多孔質膜

分類 (3件)： 充填剤,補強材  (YH05030J) ,  性質・試験一般  (YH02010S) ,  その他の高分子材料  (YH07150C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電磁干渉 ,  遮蔽 ,  多孔質 ,  還元グラフェン酸化物 ,  複合膜 ,  作製