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J-GLOBAL ID：201702218225918879   整理番号：17A0038043

C₆₀-有機ケイ素ハイブリッド重合体の易しい合成 スピン-オン型ケイ素系ハードマスク材料に向けた調節可能な光学的性質の考察

A facile synthesis of C₆₀-organosilicon hybrid polymers: Considering their tunable optical properties for spin-on-silicon hardmask materials

著者 (4件)： Choi Jin-Kyu (Department of Chemistry, Chonnam National University, Gwangju 500-757, Republic of Korea) ,  Dao Tung Duy (Department of Chemistry, Chonnam National University, Gwangju 500-757, Republic of Korea) ,  Kim Ye-Seul (Department of Chemistry, Chonnam National University, Gwangju 500-757, Republic of Korea) ,  Jeong Hyun-Dam (Department of Chemistry, Chonnam National University, Gwangju 500-757, Republic of Korea)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 181  ページ： 259-264  発行年： 2016年09月15日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高い屈折率を有する有機-無機ハイブリッド材料は,ArFリソグラフィー用のスピン-オン型ハードマスクを含む,多くの光電子的な応用に向けて大きな注目を集めている。本研究では,調節可能な光学的性質を有するC₆₀を埋め込んだ有機ケイ素ハイブリッド重合体,すなわち,C₆₀を埋め込んだポリ-キシレン-ヘキサメチルトリシロキサンハイブリッド(C₆₀-PXS)の合成を例示した。C₆₀は,Ptを触媒としたヒドロシリル化反応を通じて,PXSの骨格に共有結合させた。ここでは,PXSは,予期しない遷移金属を触媒としたベンジル型CHのシリル化反応とo-キシレンの酸素化反応によって生成したらしい。スピン被覆法を用いて作製したC₆₀-PXS薄膜は,硬化温度に従って,C₆₀を含まないPXS薄膜より5~20%高い屈折率を示した。特に,350°Cで硬化したC₆₀-PXS薄膜は,193nmで各々1.61と0.29という屈折率(n)と消光係数(k)を示した。それらの値は,Si系ハードマスクにとって最適値に非常に近かった。これは,ArFリソグラフィーにおけるスピン-オン型Si系ハードマスクに向けて,C₆₀を埋め込んだ有機ケイ素ハイブリッド重合体C₆₀-PXSの高い応用性を意味するものであるCopyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *高分子複合体 ,  *有機ケイ素化合物 ,  ヒドロシリル化 ,  *アルキルベンゼン ,  *シロキサン ,  化学修飾 ,  *フラーレンC60 ,  構造解析 ,  FTIR分光法 ,  炭素13NMR ,  陽子磁気共鳴 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  薄膜 ,  スピンコーティング ,  熱硬化 ,  *屈折率 ,  *係数 ,  反応機構 ,  マスク ,  リソグラフィー
準シソーラス用語： キシレン ,  ハードマスク ,  *消光係数

著者キーワード (4件)： Fullerenes ,  Polymers ,  Chemical synthesis ,  Optical properties

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (1件)： 1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルペンタントリシロキサン

タイトルに関連する用語 (8件)： C60 ,  有機ケイ素 ,  ハイブリッド重合体 ,  スピン ,  ケイ素 ,  ハードマスク ,  調節 ,  光学的性質