文献

J-GLOBAL ID：201702218521549029   整理番号：17A0347846

NI/AL反応多層膜の電気的性質と駆動性能に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Explosion and Flyer-driving Performance of Al/Ni Reactive Multilayers

著者 (4件)： Wang Tao (State Key Laboratory of Explosion Science and Technology, Beijing Institute of Technology) ,  Zeng Qingxuan (State Key Laboratory of Explosion Science and Technology, Beijing Institute of Technology) ,  Li Mingyu (State Key Laboratory of Explosion Science and Technology, Beijing Institute of Technology) ,  Zhang Zichao (State Key Laboratory of Explosion Science and Technology, Beijing Institute of Technology)
資料名： Huogongpin  (Huogongpin)
号： 5  ページ： 1-5  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2021A  ISSN： 1003-1480  CODEN： HUOGE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： NI/AL多層膜におけるNI/AL多層膜の応用の実現可能性を研究するために,同じ厚さのCUとAL/AL多層膜を,マグネトロンスパッタリングによって調製し,そして,SU-8フォトレジストを用いて,一定厚さの加速Tangを調製した。同じ放電回路における2種類のホイルの堆積エネルギーと駆動フライヤーの平均速度を研究した。結果は以下を示す。エネルギー貯蔵容量が1Vの放電回路において,NI/AL多層膜の堆積エネルギーは0.120~Jであり,CU箔のそれより1倍近く増加した。電圧が900Vのとき,多層膜の堆積エネルギーはCU箔のそれより18%~58%高かった。多層膜によって駆動されたフライヤーの平均速度は,CU箔よりも約10%高かった。従って,AL/AL反応多層膜は,箔起爆システムの起爆閾値を低下させ,衝撃起爆の信頼性を向上させることができる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電圧 ,  電気的性質 ,  放電 ,  起爆 ,  マグネトロンスパッタリング ,  衝撃 ,  フォトレジスト ,  *多層膜 ,  信頼性
準シソーラス用語： 貯蔵容量 ,  SU-8 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Energetic material ,  Al/Ni reactive multilayer foils ,  Exploding foil initiator ,  Energy deposition

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ni ,  Al ,  多層膜 ,  電気的性質 ,  研究