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J-GLOBAL ID：201702218579974952   整理番号：17A0124405

シリコン表面上でのナノ粒子の効果的な除去のためにレーザ誘起プラズマの条件【Powered by NICT】

Conditions for laser-induced plasma to effectively remove nano-particles on silicon surfaces

著者 (5件)： Han Jinghua (College of Electronics and Information Engineering, Sichuan University) ,  Luo Li (College of Electronics and Information Engineering, Sichuan University) ,  Zhang Yubo (Sichuan Engineering Technical College) ,  Hu Ruifeng (College of Electronics and Information Engineering, Sichuan University) ,  Feng Guoying (College of Electronics and Information Engineering, Sichuan University)
資料名： Chinese Physics B  (Chinese Physics B)
巻： 25  号： 9  ページ： 095204-1-095204-6  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1539A  ISSN： 1674-1056  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 粒子は照射及びレーザプラズマ衝撃波によるシリコン表面から除去された。粒子とシリコンは照射により加熱されており,これらの異なった膨張係数による異なる拡大,粒子を除去する容易にするであろう。レーザプラズマはイオン化と入射レーザよりも有意に粒子を蒸発させることさえできるので,粒子を除去より効率的にできる。レーザプラズマ衝撃波が粒子除去の支配的役割,その強いバースト力に起因することを果たしている。レーザプラズマ衝撃波の圧力はレーザパルスエネルギーとレーザと基板表面の間のギャップによって決定した。粒子除去のための作動条件を得るために,除去機構,速度,伝搬距離と衝撃波の圧力の時間的および空間的特性は研究されている。著者らの結果に基づいて,ナノ粒子除去のための条件を達成した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 衝撃波 ,  *ケイ素 ,  バースト ,  膨張係数 ,  *レーザ ,  レーザプラズマ ,  *ナノ粒子 ,  *プラズマ
準シソーラス用語： 伝搬距離 ,  粒子除去 ,  プラズマ衝撃波 ,  *レーザ誘起 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： レーザ誘起プラズマ ,  衝撃波 ,  のナノ粒子 ,  表面洗浄

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコン ,  ナノ粒子 ,  レーザ誘起プラズマ