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J-GLOBAL ID:201702219088184592   整理番号:17A0181186

半導体ナノワイヤの転写捺染【Powered by NICT】

Transfer printing of semiconductor nanowires
著者 (7件):
資料名:
巻: 2016  号: IPC  ページ: 712-713  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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標的位置,多重基板上にと複雑な空間パターンを形成することで室温でのレーザ放射を用いた半導体ナノワイヤの正確な位置決めは,新規なナノ規模移動印刷技術を用いて実証した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
シソーラス用語:
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
分類
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赤外・遠赤外領域の測光と光検出器  ,  原子・分子のクラスタ  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  物理化学一般その他  ,  半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
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