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J-GLOBAL ID：201702219600802273   整理番号：17A0055490

光電気化学的水分解素子への応用のためのPECVD技術により堆積した炭化けい素薄膜【Powered by NICT】

Silicon carbide thin films deposited by PECVD technology for applications in photoelectrochemical water splitting devices

著者 (9件)： Huran J. (Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Du ́bravska ́ cesta 9, 84104, Bratislava, Slovakia) ,  Bohacek P. (Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Du ́bravska ́ cesta 9, 84104, Bratislava, Slovakia) ,  Sasinkova V. (Institute of Chemistry, Slovak Academy of Sciences, Slovak Academy of Sciences, Du ́bravska ́ cesta 9, 84541 Bratislava, Slovakia) ,  Kleinova A. (Polymer institute, Slovak Academy of Sciences, Du ́bravska ́ cesta 9, 84538 Bratislava, Slovakia) ,  Mikolasek M. (Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, Slovak University of Technology, Ilkovic∨ova 3, 81219 Bratislava, Slovakia) ,  Kobzev A.P. (Joint Institute for Nuclear Research, Joliot-Curie 6, 141980 Dubna, Russian Federation) ,  Hrubcin L. (Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Du ́bravska ́ cesta 9, 84104, Bratislava, Slovakia) ,  Arbet J. (Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Du ́bravska ́ cesta 9, 84104, Bratislava, Slovakia) ,  Sekacova M. (Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Du ́bravska ́ cesta 9, 84104, Bratislava, Slovakia)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： ASDAM  ページ： 215-218  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質炭化けい素膜は,光電気化学水分解デバイスなどの技術でSiC膜を使用する目的でSi基板上にPECVD法で作製した。膜中の元素の濃度はRBSとERD法により決定した。FTIR,RamanおよびI-V測定から,硫酸水溶液電解質への試料の浸漬前後に使用した。電解質への浸漬前後のI-V特性の間のRamanやFTIRスペクトルと差の違いを論じた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 浸漬 ,  硫酸 ,  電流電圧特性 ,  非晶質 ,  水溶液 ,  *プラズマCVD ,  *炭化ケイ素 ,  電解質 ,  *炭化 ,  *光電気化学
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,  シリコンウエハ ,  *シリコン薄膜 ,  *水分解 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光電気化学 ,  水分解 ,  応用 ,  PECVD ,  堆積 ,  炭化 ,  けい素薄膜