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J-GLOBAL ID：201702221685177742   整理番号：17A0071855

AL_(0.3) _(1.5)MNNI_(0.5)高エントロピー合金窒化物薄膜の特性に及ぼす基板バイアスの影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

著者 (5件)： Li Rongbin (上海理工大学机械工程学院) ,  Jiang Chunxia (上海理工大学机械工程学院) ,  Sun Yongyi (上海理工大学机械工程学院) ,  Wang Long (上海理工大学机械工程学院) ,  Chu Xiangwei (上海理工大学机械工程学院)
資料名： Cailiao Baohu (Wuhan)  (Cailiao Baohu (Wuhan))
巻： 49  号： 9  ページ： 1-3,37  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0339A  ISSN： 1001-1560  CODEN： CAIBE3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高エントロピー合金窒化物薄膜は優れた性能を有し,現在,AL_(0.3)CRFE_(1.5)MNNI_(0.5)高エントロピー合金の研究は主にバルクであり,薄膜の研究は少ない。AL_(0.3)CRFE_(1.5)MNNI_(0.5)高エントロピー合金窒化物薄膜を,DCマグネトロンスパッタリングによってシリコンウエハ上に堆積した。X線回折(XRD)、走査型電子顕微鏡(SEM)、ナノなどを用いて、基板のバイアスが薄膜の結晶構造、スパッタリング効率、硬さと摩擦磨耗性能に与える影響を分析した。結果は以下を示す。基板のバイアスが50Vのとき,薄膜の結晶構造は面心立方構造(FCC)であり,薄膜の断面は明らかな柱状構造を示した。電圧の増加とともに,回折ピークの強度は減少し,結晶粒度は減少し,そして,膜のスパッタリング効率は減少し,そして,硬度は増加した。基板のバイアスが-150Vのとき,膜の硬度は最も高く,13.74GPAであり,このとき,膜の耐摩耗性は最も良かった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶粒度 ,  スパッタリング ,  走査電子顕微鏡 ,  *窒化物 ,  耐摩耗性 ,  硬度 ,  *バイアス ,  *薄膜 ,  摩耗 ,  結晶構造 ,  X線回折
準シソーラス用語： 柱状構造 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  *基板バイアス ,  *高エントロピー合金 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高エントロピー合金 ,  窒化物 ,  薄膜 ,  基板バイアス ,  研究