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J-GLOBAL ID:201702221756664296   整理番号:17A0443955

SiO_x:H/bi SiN_x H/SiO_xの応用:ナノワイヤでテクスチャ化した結晶シリコン太陽電池のシリコンナノ結晶を埋込んだH積層被覆【Powered by NICT】

Application of SiOx:H/bi-SiNx:H/SiOx:H stacked coatings embedded by silicon nanocrystals on crystalline silicon solar cells with nanowire texturing
著者 (8件):
資料名:
巻: 624  ページ: 21-28  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,シリコンナノ結晶(Si NC ARCs)により組み込まれたSiO_x:H/bi SiN_ H/SiO_SiCx:H四重層反射防止膜は,ナノワイヤでテクスチャ化したn型単結晶シリコン系太陽電池上に堆積したプラズマ化学気相蒸着を強化する手段であった。研磨したシリコンウエハ上にSi-NC ARCの平均反射率は4.97%(300 1000nm)であった。Si-NC ARCが堆積した後ナノワイヤテクスチャリングを用いたシリコンウエハの少数キャリア寿命はほぼ39倍促進された。さらに,Si-NC ARCは顕著な発光ダウンシフト効果(LDS)を示し,青紫領域に強い吸収とそれに続く赤-近赤外線領域で再発光を,太陽電池に達する前に,太陽光スペクトルを変更し,その結果,より良好なスペクトル応答を得た。電池コストの顕著な増大なしに,Si-NC ARCを堆積後,ナノワイヤでテクスチャ化した太陽電池の外部量子効率,短絡電流密度と光変換効率は著しく向上した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  太陽電池 

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