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J-GLOBAL ID:201702222373899301   整理番号:17A0470242

ポリシリコン顆粒を製造するための内部循環流動層反応器における流体力学的挙動のCFDシミュレーション【Powered by NICT】

CFD simulation of the hydrodynamic behavior in an internally circulating fluidized bed reactor for producing polysilicon granules
著者 (9件):
資料名:
巻: 311  ページ: 496-505  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0730A  ISSN: 0032-5910  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ポリシリコン顆粒を製造するための使用された中央ドラフトチューブ付き内部循環流動層(ICFB)反応器を研究し,壁に及ぼすけい素沈着の抑制に焦点を当てた。固体循環速度(G,S)およびガスバイパス分率(γ_DAとγ_AD)に及ぼすガス速度,粒子径と反応器構成の効果を,二次元CFDシミュレーションにより研究した。一般的に使用される抗力モデルの中で,SyamlalとO’Brien抗力モデルは最良の予測を与えた。加熱壁上のシリコン蒸着の最良の熱伝達性能と阻害のために,ICFBに対する最適ガス速度は,U_D/U_Umf=1.0 1.7とU_A/U_Umf=1.5 2.3した。U_D/Uは_Umf<0.65とU_A/U_mf>1.75のとき,逆循環パターンが出現しγ_DAは有意に増加した。粒子直径,オリフィスサイズとドラフト管のパラメータの影響を調べた。ICFBにおいて良好な流動化,オリフィスの位置と大きさのために,ドラフト管のドラフトチューブと高さに環状の面積比はs_O<0.02m~2,H_O<320mm,1.5<s2_Å/s_D<3.2および700<H<900mm,それぞれを満たす必要がある。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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