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J-GLOBAL ID：201702223837728679   整理番号：17A0376638

可視光照射下でのBiFeO_3ディスクの光触媒作用【Powered by NICT】

The photocatalysis of BiFeO₃ disks under visible light irradiation

著者 (5件)： Tong Tong (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, PR China) ,  Zhang Han (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, PR China) ,  Chen Jianguo (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, PR China) ,  Jin Dengren (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, PR China) ,  Cheng Jinrong (School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, PR China)
資料名： Catalysis Communications  (Catalysis Communications)
巻： 87  ページ： 23-26  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1328A  ISSN： 1566-7367  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 可視光照射下でBiFeO_3ディスクの光触媒プロセスを,光-Fenton類似反応と表現した。光触媒プロセス中に発生する活性ヒドロキシルラジカル(・OH)はテレフタル酸(TA)蛍光プローブ法,H_2O_2と触媒量の負荷に大きく影響されることが証明されたを用いて定量した。著者らの結果は,光触媒効率は,OH濃度と共に増加することを示した。H_2O_2(80mm)および触媒量(2.0g/L)の最適負荷は,MOの光触媒分解速度は,3時間の可視光照射下で97%に強化された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *円板 ,  ヒドロキシルラジカル ,  *可視光 ,  *光触媒反応 ,  *光触媒 ,  *触媒
準シソーラス用語： 光触媒分解 ,  蛍光プローブ ,  光-Fenton ,  *可視光照射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： BiFeO_3ディスク ,  ヒドロキシルラジカル ,  Photo-Fenton様プロセス ,  可視光光触媒作用

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (3件)： 可視光照射 ,  ディスク ,  光触媒作用