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J-GLOBAL ID：201702227536319730   整理番号：17A0318977

分散純正方晶ZrO2ナノ粒子の容易な腐食合成と焼結【Powered by NICT】

Facile corrosion synthesis and sintering of disperse pure tetragonal zirconia nanoparticles

著者 (6件)： Zhou Hua (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Pu Sanxu (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Huo Junming (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Cao Wenbin (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Wang Bing (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Li Jiangong (Institute of Materials Science and Engineering, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 42  号： 13  ページ： 15005-15011  発行年： 2016年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 10nmより小さい分散純粋な正方晶ジルコニア(t ZrO_2)ナノ粒子は構造的及び機能的ジルコニア材料の調製に必須であるが,無機ジルコニウム塩を用いたt ZrO_2ナノ粒子の合成は,通常,重度の凝集をもたらした。本論文では,界面活性剤なしでオキシ塩化ジルコニウムを用いた沈殿によって合成しt ZrO_2ナノ粒子の分散性を向上させるための水熱腐食アプローチを報告した。平均サイズ4.5と6nmの純粋なt ZrO_2ナノ粒子分散と2 11と3~12nmの粒度分布を析出物をか焼400°Cで2時間と500°Cで0.5時間75時間の120°CでHCl腐食により追跡することにより得た。6nmの平均サイズを有する分散t ZrO_2ナノ粒子と3~12nmの粒度分布は500MPaで圧粉体にプレスし,二段階焼結(保持なしで1150°Cに加熱と10時間保持1000°Cに減少)で焼結した。焼結体は99.9%の相対密度を持つ緻密な純単斜晶ZrO_2ナノ結晶セラミック,平均粒径が110nmである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 分散度 ,  *酸化ジルコニウム ,  ナノ結晶 ,  か焼 ,  *ナノ粒子 ,  塩酸 ,  相対密度 ,  粒度分布 ,  圧粉体 ,  *正方晶系 ,  単斜晶系 ,  析出物 ,  *焼結
準シソーラス用語： オキシ塩化ジルコニウム ,  正方晶ジルコニア , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ジルコニア ,  Nanoparticles ,  水熱腐食 ,  分散度 ,  焼結

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 正方晶 ,  ZrO2 ,  ナノ粒子 ,  腐食 ,  焼結