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J-GLOBAL ID:201702230487557483   整理番号:17A0747396

ポロゲンとしてヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリンを用いた超低屈折率シリカ被覆のゾル-ゲル調製【Powered by NICT】

Sol-gel preparation of ultralow refractive index silica coatings with hydroxypropyl-beta-cyclodextrin as porogen
著者 (7件):
資料名:
巻: 134  号: 14  ページ: ROMBUNNO.44686  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0467A  ISSN: 0021-8995  CODEN: JAPNAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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超低屈折率膜をポロゲンとしてメチルトリエトキシシラン(MTES),共前駆体としてオルトケイ酸テトラエチル(TEOS),およびヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン(HPCD)を用いた塩基触媒ゾル-ゲル法に基づいて調製した。hexamethylisilazane(HMDS)による修飾後,ハイブリッドゾルから得られたこれらのシリカ被覆の最低屈折率は1.05であり,被覆の静的水接触角は66.4°から128.7°に増加した。屈折率と塗膜の形成に及ぼすHPCD SiO_2への重量比の影響を系統的に調べた。データをポロゲンとしてHPCDで作製した膜は約4nmの細孔径を得たことを示した。ポロキサマー(F127)などテンプレートと比較して,HPCDはだけでなく膜の屈折率を減少させることで性能が良く,が膜のメソ細孔による光散乱を排除し,界面活性剤テンプレート法の分野に潜在的価値を持つであろう。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
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高分子固体のその他の性質  ,  高分子固体の物理的性質  ,  共重合 

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