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J-GLOBAL ID：201702232556394187   整理番号：17A0171949

電子論に基づく電気めっき薄膜の内部応力解析【JST・京大機械翻訳】

Internal stress analysis of electroplated films based on electron theory

著者 (7件)： Ren Fengzhang (School of Materials Science and Engineering, Henan University of Science and Technology) ,  Yin Litao (School of Materials Science and Engineering, Henan University of Science and Technology) ,  Wang Shanshan (School of Materials Science and Engineering, Henan University of Science and Technology) ,  Xiong Yi (School of Materials Science and Engineering, Henan University of Science and Technology) ,  Volinsky A A (Department of Mechanical Engineering, University of South Florida) ,  Tian Baohong (School of Materials Science and Engineering, Henan University of Science and Technology) ,  Wei Shizhong (School of Materials Science and Engineering, Henan University of Science and Technology)
資料名： Transactions of Nonferrous Metals Society of China  (Transactions of Nonferrous Metals Society of China)
巻： 26  号： 9  ページ： 2413-2418  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0396A  ISSN： 1003-6326  CODEN： TNMCEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： FE,NI及びAG基板上にCU膜を電着法で堆積し,FEとAG基板上にNI膜を堆積させ,CU基板上にAG膜を堆積させ,FE基板上にNI膜を堆積させ,NI基板上にNI膜を堆積させ,CU基板上にCU膜を堆積させた。CR膜を除く他の薄膜の平均応力を懸臂梁法法で測定した。結果は,薄膜と基板が異種材料であるとき,膜の界面応力が非常に大きく,同じ材料の場合の界面応力がゼロであることを示した。カンチレバーの屈曲方向から得られた界面応力の性質は改良されたTHOMAS-FERMI-DIRAC電子理論から得られた結果と一致した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 平均応力 ,  *薄膜 ,  *応力解析 ,  電着 ,  片持梁 ,  *電気めっき
準シソーラス用語： 界面応力 ,  異種材料 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： metal film ,  deposition ,  interface ,  internal stress ,  electron density

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子論 ,  電気めっき ,  薄膜 ,  応力解析