文献

J-GLOBAL ID：201702232718645821   整理番号：17A0074653

化の硫化カドミウムへの応用【JST・京大機械翻訳】

Application of photosensitive polyimide in CdS ultraviolet device

著者 (4件)： Guo Xi (North China Research Institute of Electro - optics) ,  Li Zhonghe (North China Research Institute of Electro - optics) ,  Liu Jiaxing (North China Research Institute of Electro - optics) ,  Yang Gang (North China Research Institute of Electro - optics)
資料名： Jiguang yu Hongwai  (Jiguang yu Hongwai)
巻： 46  号： 9  ページ： 1156-1159  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2073A  ISSN： 1001-5078  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ポリイミドの特性と応用状況を紹介し、それをCDSナノ結晶の作製に導入し、実験研究により、1種の陽性ポリイミドのフォトリソグラフィープロセスを開発、把握し、イミド化後、CDS薄膜の表面層として利用した。実験結果は,接着剤の電気的性質と光電気的性質が利用要求を満たすことを示した。同時に,このポリイミドの応用は,40%の製造プロセスを単純化し,CDSの製造効率と収率を向上させることができた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イミド化 ,  電気的性質 ,  ポリイミド ,  薄膜 ,  生産工程 ,  ナノ結晶 ,  表層 ,  簡素化 ,  接着剤 ,  *硫化カドミウム
準シソーラス用語： 生産効率 ,  実験研究 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： photosensitive polyimide ,  CdS ,  ultraviolet device ,  photolithography ,  imidization ,  surface passivation

分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (2件)： 硫化カドミウム ,  応用