文献
J-GLOBAL ID:201702233321171002   整理番号:17A0311850

微細構造,WドープNa_0 5Bi_0 5TiO_3薄膜の強誘電及び誘電特性に及ぼすアニーリング温度の影響【Powered by NICT】

Effects of annealing temperature on the microstructure, ferroelectric and dielectric properties of W-doped Na0.5Bi0.5TiO3 thin films
著者 (8件):
資料名:
巻: 42  号: 10  ページ: 12210-12214  発行年: 2016年08月 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
構造,形態,Na_0 5Bi_0 5Ti_0 0.99W_0 0.01O_3+(NBTW)薄膜の強誘電及び誘電特性に及ぼすアニーリング温度の効果を詳細に報告した。膜をゾル-ゲル法により酸化インジウムスズ/ガラス基板上に堆積し,採用したアニーリング温度は560 620°Cの範囲であった。全ての膜は純粋なペロブスカイト構造に結晶化することができ,亀裂のない平滑な表面を示した。特に,600°CでアニールしたNBTW薄膜は750kV/cmで測定した20μC/cm~2の相対的に大きな残留分極(Pr)を示した。,608の高い誘電率と0.094の低い誘電損失62%の大きな誘電同調率を示し,室温可変同調デバイス応用における理想的NBTW薄膜を作成した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  セラミック・磁器の性質 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る