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J-GLOBAL ID：201702235235226589   整理番号：17A0443962

構造,反応性同時スパッタしたNi-TiNナノ複合材料薄膜の応力と性質に及ぼす基板温度とアニーリングの影響【Powered by NICT】

Effect of substrate temperature and annealing on structure, stress and properties of reactively co-sputtered Ni-TiN nanocomposite thin films

著者 (2件)： Kumar Mukesh (Department of Metallurgical and Materials Engineering, Indian Institute of Technology, Kharagpur 721302, West Bengal, India) ,  Mitra R. (Department of Metallurgical and Materials Engineering, Indian Institute of Technology, Kharagpur 721302, West Bengal, India)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 624  ページ： 70-82  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Niマトリックス中に分散したTiNナノ複合材料薄膜をRFおよびDC源として使用したTiとNiターゲットの同時スパッタリングにより300°C,500°Cまたは700°Cで 60Vのバイアスを持つシリコン(100)基板上にAr:N_2=1:2を持つ環境で堆積した。これらの膜の構造と性質を室温で堆積したものと比較して,上記温度で真空中で1時間アニールした。<111>はNiの優先配向であるが,<100>から<111>には500°C以上の温度でのTiNで観察され,XRD解析により確認された。NiおよびTiNの平均粒径は25nmと6 13nmの範囲であることが見出され,それぞれ,XRDとTEM研究を使用している。圧縮引張残留応力への転移は堆積又はアニーリングのための基板温度の上昇とともに観察された。ナノ圧子を用いて評価し膜の硬さ,弾性係数および耐摩耗は300°Cの基板温度での成長に最も最適値を有することが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *基板温度 ,  硬度 ,  *ナノ複合材料 ,  残留応力 ,  *焼なまし ,  バイアス ,  *チタン ,  摩耗 ,  優先配向 ,  *ニッケル ,  *反応性 ,  X線回折
準シソーラス用語： ナノプローブ ,  引張残留応力 ,  *窒化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： ナノ複合材料薄膜 ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  基板温度 ,  アニーリング ,  表面粗さ ,  残留応力 ,  ナノ押込硬さ ,  ナノ引かき

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (10件)： 反応性 ,  スパッタ ,  Ni ,  TiN ,  ナノ複合材料 ,  薄膜 ,  応力 ,  性質 ,  基板温度 ,  アニーリング