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J-GLOBAL ID：201702235353701163   整理番号：17A0325960

転送可能な単結晶4H-SiCナノ膜【Powered by NICT】

Transferrable single crystalline 4H-SiC nanomembranes

著者 (9件)： Kim Munho (Department of Electrical and Computer Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, WI 53706, USA. [e-mail]) ,  Seo Jung-Hun ,  Zhao Deyin ,  Liu Shih-Chia ,  Kim Kwangeun ,  Lim Kangmook ,  Zhou Weidong ,  Waks Edo ,  Ma Zhenqiang
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 5  号： 2  ページ： 264-268  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,SiC/電気絶縁材(SiCOI)ウエハから放出された移転可能単結晶4H-SiCナノ膜(SiC NM)を実証した。高分解能X線回折(XRD)と原子間力顕微鏡(A FM)を用いて,SiC NM上で行い,同様に良好な結晶性と表面形態を確認した。さらに,SiC NMの屈折率と消衰係数は,偏光解析法分析を用いて調べた。やせ(すなわち,200nm)にもかかわらず,SiC NMは256nmで73.8%の最大吸収をもつ200 260nmの波長範囲で40%以上の吸収を達成した。移転可能SiC NMは良好な機械的柔軟性を提供するだけでなく,高感度柔軟なUV検出器のための容易に利用できる優れた紫外(UV)光吸収を示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光吸収 ,  *炭化ケイ素 ,  柔軟性 ,  結晶度 ,  *単結晶 ,  偏光解析法 ,  X線回折 ,  高感度 ,  屈折率 ,  波長 ,  原子間力顕微鏡 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： 消衰係数 ,  表面形態 ,  *ナノ薄膜 ,  *4H-SiC , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 塩  (CD01050V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 転送 ,  単結晶 ,  4H-SiC ,  ナノ膜