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J-GLOBAL ID：201702236072380710   整理番号：17A0449395

天然サンスクリーン処方中の活性成分としてのZanthoxylum rhetsa樹皮抽出物の酢酸エチル画分の利用【Powered by NICT】

Utilization of the ethyl acetate fraction of Zanthoxylum rhetsa bark extract as an active ingredient in natural sunscreen formulations

著者 (7件)： Santhanam Ramesh kumar (Laboratory of Natural Products, Institute of Bioscience, Universiti Putra Malaysia, 43400 UPM Serdang, Selangor, Malaysia) ,  Akhtar Muhammad Tayyab (Laboratory of Natural Products, Institute of Bioscience, Universiti Putra Malaysia, 43400 UPM Serdang, Selangor, Malaysia) ,  Ahmad Syahida (Faculty of Biotechnology and Biomolecular Sciences, Universiti Putra Malaysia, 43400 UPM Serdang, Selangor, Malaysia) ,  Abas Faridah (Laboratory of Natural Products, Institute of Bioscience, Universiti Putra Malaysia, 43400 UPM Serdang, Selangor, Malaysia) ,  Ismail Intan Safinar (Laboratory of Natural Products, Institute of Bioscience, Universiti Putra Malaysia, 43400 UPM Serdang, Selangor, Malaysia) ,  Rukayadi Yaya (Laboratory of Natural Products, Institute of Bioscience, Universiti Putra Malaysia, 43400 UPM Serdang, Selangor, Malaysia) ,  Shaari Khozirah (Laboratory of Natural Products, Institute of Bioscience, Universiti Putra Malaysia, 43400 UPM Serdang, Selangor, Malaysia)
資料名： Industrial Crops and Products  (Industrial Crops and Products)
巻： 96  ページ： 165-172  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0732A  ISSN： 0926-6690  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 日焼け,未熟皮膚加齢,皮膚癌と免疫系の抑制はUV光に対する皮膚の曝露に関連している。近年,植物抽出物が天然の日焼け止め剤処方中の一般的な活性成分となっている。本研究では,Zanthoxylum rhetsa樹皮(一般的にインドウチワ灰と呼ぶ)の酢酸エチル画分は二種のサンスクリーンクリーム処方(F1およびF2)中の活性成分として使用した。第一に,活性画分中に存在する成分をLC-MS/MS分析を用いて同定した。クマル酸,安息香酸,p-ヒドロキシ安息香酸およびその異性体,ヘスペリチン,トリヒドロキシオクタデセン酸とコルンバミンはZ.rhetsa樹皮抽出物の酢酸エチル画分で同定された。定式化したクリームのUV保護特性は,SPF値(F1:3.60±0.28,F2:6.90±0.57),UVA有効性(両試験製剤に対して中程度の)と臨界波長(F1:365.4,F2:360.3)のようなパラメータの評価により評価した。さらに,定式化したクリームの物理化学的及び微生物数は,28日の貯蔵期間にわたって色,pH,遠心分離,粘度と微生物負荷のような種々のパラメータに基づいて評価した。両製剤は擬塑性挙動を示し,40°Cに保たれた試料を除いて全ての条件で安定であった。まとめると,これらの結果は,Z.rhetsa樹皮の酢酸エチル画分は有害なUVA/UVB放射線への曝露を低減するための大きな可能性を持ち,天然の日焼け止め中の活性成分として利用できる可能性があることを示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 紫外線 ,  日焼け止指数 ,  *樹皮 ,  皮膚腫瘍 ,  粘度 ,  *日焼け止 ,  シェルフライフ ,  クリーム ,  UV-B放射 ,  植物抽出物 ,  *抽出物 ,  *有効成分 ,  液体クロマトグラフィー-タンデム質量分析 ,  係数 ,  輸送係数 ,  度 ,  芳香族カルボン酸 ,  脂肪酸 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： LC/MS/MS , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Z rhetsa ,  サンスクリーン ,  定式化 ,  UVA/UVB ,  SPF ,  LC-MS/MS

分類 (2件)： 森林植物学  (FF02020E) ,  植物の生化学  (EH01050J)

物質索引 (2件)： 安息香酸 ,  酢酸エチル

タイトルに関連する用語 (8件)： サンスクリーン ,  処方 ,  活性成分 ,  Zanthoxylum ,  樹皮 ,  抽出物 ,  酢酸エチル ,  画分