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J-GLOBAL ID:201702236576345028   整理番号:17A0452443

ラテックス混合およびin situ還元により作製したポリ(メタクリル酸メチル)/還元グラフェン酸化物ナノ複合材料の耐放射線性【Powered by NICT】

Radiation resistance of poly(methyl methacrylate)/reduced graphene oxide nanocomposites fabricated through latex mixing and in situ reduction
著者 (5件):
資料名:
巻: 315  ページ: 516-526  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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アニオンPMMAラテックス粒子とグラフェン酸化物分散に続き凝集とin situヒドラジン還元のラテックス混合による高耐放射線性ポリ(メタクリル酸メチル)/還元グラフェン酸化物(PMMA/RGO)複合材料を作製するための容易で環境に優しいアプローチを提案した。形態学的観察は,PMMAマトリックス中のRGOナノシートの非常に均一な分散を明らかにした。動的機械的性質は,PMMA鎖の放射線誘起架橋および鎖切断は,低および高線量で照射した純粋なPMMAに比べてPMMA/RGOナノ複合材料におけるdelaid,それぞれ有意であることを示した。さらに,RGOナノシートの導入はPMMAマトリックスの熱酸化分解を遅らせた。この遅れは,RGOがラジカルスカベンジャーとして働くことができるという事実によると考えられる,電子常磁性共鳴分光分析により確認された。RGOの物理的障壁効果は,酸素分子の拡散のための曲がりくねった経路を提供し,その結果ペルオキシラジカル濃度の減少をもたらした。相乗効果は,照射環境下での機械的及び熱的に安定なグラフェン系材料。これらの知見は,放射線抵抗性ナノ複合材料の設計,原子力産業と航空宇宙分野における保護材料用の有望な候補と考えることができる,新しい戦略を提供した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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光化学一般 

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