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J-GLOBAL ID:201702237122565728   整理番号:17A0325459

イリジウム(III)フェニルテトラゾール錯体により促進されたジチアン 2 カルボキシラートの光酸化還元ラジカル共役付加:Michael受容体の形式的ラジカルメチル化【Powered by NICT】

Photoredox radical conjugate addition of dithiane-2-carboxylate promoted by an iridium(iii) phenyl-tetrazole complex: a formal radical methylation of Michael acceptors
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巻:号:ページ: 1613-1620  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7042A  ISSN: 2041-6539  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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容易に入手可能なイリジウム(iii)フェニルテトラゾール錯体([Ir(ptrz)2(tBu bpy)]~+,2;Hptrz=2-メチル-5-フェニル-テトラゾール;tBu bpy=4,4′-ジ-tert-ブチル-2,2′-ビピリジン)は新しい光触媒Michael反応のための有用な触媒であることを示した。2の存在下での光照射下で,ジチアン2-カルボン酸,市販のエチルエステルの簡単な加水分解によって得られた,は様々なMichael受容体(例えば,不飽和ケトン,エステル,アミドおよびマロン酸エステル)の添加を行うことができる1,3 ジチアンラジカルを生成する。高収率でこの広い範囲反応はメチルラジカルの形式的光酸化還元添加し,得られた付加物は種々の官能化生成物のための出発材料である。触媒2の励起状態酸化電位はα-ヘテロ置換カルボン酸からのみラジカルの選択的生成を可能にする。この金属錯体の化学修飾は電気化学的性質を調整する,新しい高選択的接触光酸化反応への道を開くことができる。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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脂肪族カルボン酸エステル・カルボン酸無水物・酸ハロゲン化物・アシルペルオキシド 
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