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J-GLOBAL ID:201702237277337094   整理番号:17A0852557

フォトニック要素の非破壊ウエハスケール特性化のための光学的プローブ【Powered by NICT】

Optical Probe for Nondestructive Wafer-Scale Characterization of Photonic Elements
著者 (2件):
資料名:
巻: 29  号:ページ: 643-646  発行年: 2017年 
JST資料番号: T0721A  ISSN: 1041-1135  CODEN: IPTLEL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ナノフォトニック素子と回路の非破壊エバネセント結合と局在試験のための微細加工フォトニック導波路ループプローブの作製と動作について述べた。≒10μm直径半円を形成する微細加工したシリコン(Si)導波路(≒300≒260nm断面積)ループは絶縁体上チップ(≒1.5 mm ×≒3.5 mm)単一モードファイバ接続シリコンからカンチレバーの先端での空気中に懸濁する。プローブは,正確な位置決め,制御された光結合,およびチップスケールとウエハスケール試験のための市販の走査プローブ顕微鏡(SPM)と共に使用するために設計した。≒10~6の光学的品質因子を持つSiマイクロディスク光共振器に分光法を行うことによりこれを実証した。SPMは過結合条件の下での結合速度を変化させる試料プローブ距離の正確な測定と安定な制御を可能にする。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  光通信方式・機器 

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