文献

J-GLOBAL ID：201702239103120705   整理番号：17A0173196

二次相関イメージングシステムにおけるスペクトル吸収スペクトルの低減について述べた。【JST・京大機械翻訳】

Study and Fabrication Broad Spectral Absorbing Film in Second-order Correlated Imaging System

著者 (5件)： Fu Xiuhua (Department of Optics and Electric Engineering, Changchun University of Science and Technology) ,  Xiong Shifu (Department of Optics and Electric Engineering, Changchun University of Science and Technology) ,  Liu Dongmei (Department of Optics and Electric Engineering, Changchun University of Science and Technology) ,  Zhang Jing (Department of Optics and Electric Engineering, Changchun University of Science and Technology) ,  Cheng Huiting (Department of Optics and Electric Engineering, Changchun University of Science and Technology)
資料名： Guangzi Xuebao  (Guangzi Xuebao)
巻： 45  号： 10  ページ： 1031001-1-1031001-6  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1500A  ISSN： 1004-4213  CODEN： GUXUED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 関連イメージングシステムのバックグラウンドを満たすために,AL,CRおよびSIO_2をコーティング材料として選択し,薄膜の吸収理論に従って,膜の設計ソフトウェアを用いて,広帯域吸収膜を設計し,真空蒸着技術を用いて薄膜を得た。真空段階的アニーリングにより,膜の内部応力を減少させ,膜の内部応力を解決した。相互作用分析を用いて,試験結果の逆解析を行い,プロセスパラメータを最適化することによって,膜厚さを制御し,膜厚の制御誤差を減少させることができた。調NMの平均吸収率は99.1%に達し,システムの利用要求を満たした。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 真空蒸着 ,  薄膜 ,  吸収係数 ,  焼なまし ,  *スペクトル ,  プロセスパラメータ ,  内部応力 ,  *吸収スペクトル ,  最適化 ,  広帯域 ,  *第二相 ,  被覆材 ,  膜厚 ,  *イメージングシステム ,  改変
準シソーラス用語： 逆解析 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Thin film ,  Correlated imaging ,  Stepped vacuum annealing ,  Reverse inversion ,  Internal stress ,  Absorbing film

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 相関 ,  イメージングシステム ,  スペクトル ,  吸収スペクトル