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J-GLOBAL ID：201702240505832601   整理番号：17A0775214

パターン化シリコンナノワイヤの作製【JST・京大機械翻訳】

Preparation of the Patterning Silicon nanowires

著者 (3件)： GONG Wen-li (Department of Electrical Engineering,East China Normal University) ,  WAN Li-juan (Department of Electrical Engineering,East China Normal University) ,  ZHANG Jan (Department of Electrical Engineering,East China Normal University)
資料名： Gongneng Cailiao yu Qijian Xuebao  (Gongneng Cailiao yu Qijian Xuebao)
巻： 15  号： 6  ページ： 587-590  発行年： 2009年 
JST資料番号： C2096A  ISSN： 1007-4252  CODEN： GCQXFW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本論文では、通常の常温(常圧、大気圧など)条件下で、金属触媒化学エッチング方法を利用して、シリコンウエハ表面上に大面積の配列整列、配向一致のシリコンナノワイヤ配列を作製した。同時に、後続の作成のセンサーを考慮し、マイクロエレクトロニクス標準加工技術を利用して、窒化ケイ素をマスクとし、適切な実験パラメータを選択することにより、シリコンウエハ表面に選択的にナノワイヤを成長させ、パターン化されたシリコンナノワイヤ配列を得た。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 金属触媒 ,  *パターン形成 ,  窒化ケイ素 ,  ウェットエッチング ,  センサ ,  *ナノワイヤ ,  マイクロエレクトロニクス
準シソーラス用語： 加工技術 ,  大面積 ,  シリコンウエハ ,  常圧 ,  *シリコンナノワイヤ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： silicon nanowires ,  selective formation ,  patterning

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (3件)： パターン化 ,  シリコンナノワイヤ ,  作製