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J-GLOBAL ID：201702240719358461   整理番号：17A0375946

NaClO溶液を用いた煙道ガスからのひ素の除去【Powered by NICT】

Removal of arsenic from flue gas by using NaClO solution

著者 (4件)： Zhao Yi (School of Environmental Science & Engineering, North China Electric Power University, Baoding 071003, PR China) ,  Qiu Wen (School of Environmental Science & Engineering, North China Electric Power University, Baoding 071003, PR China) ,  Yang Chunyan (School of Environmental Science & Engineering, North China Electric Power University, Baoding 071003, PR China) ,  Wang Jianan (School of Environmental Science & Engineering, North China Electric Power University, Baoding 071003, PR China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 309  ページ： 1-6  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 安価なプロセスはNaClO溶液を用いた煙道ガスからヒ素を除去するために開発した。種々の影響因子,NaClO濃度,初期溶液pH,反応温度,ヒ素の除去に及ぼす煙道ガス中のO_2,CO_2,SO_2とNOの濃度のような自作バブリング反応器,そこから,最適実験条件は,反応温度の1.0l/min煙道ガス流量の,次亜塩素酸ナトリウム溶液の100mmol/L,6.0溶液pHと60°Cで得られたで実験的に調べた。平均除去効率は約97.5%で達成された。生成物のHPLC-HG-AFS分析には主要な反応生成物はAsO_4~3 であったことを証明した。電極電位の解析と組み合わせて,NaClO溶液によるAs_2O_3反応の機構を提案した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 反応温度 ,  *ヒ素 ,  反応生成物 ,  反応器 ,  電極電位 ,  *煙道 ,  *煙道ガス ,  高速液体クロマトグラフィー
準シソーラス用語： 除去効率 ,  次亜塩素酸ナトリウム ,  ガス流量 ,  実験条件 ,  影響因子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ひ素の除去 ,  NaClO ,  反応機構

分類 (2件)： 有害ガス処理法  (SC04030H) ,  吸収  (XD02090P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 溶液 ,  煙道ガス ,  ひ素