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J-GLOBAL ID：201702241418305461   整理番号：17A0445467

高電流パルス電子ビームを照射したニッケル基合金GH4169の微細構造と耐高温酸化性【Powered by NICT】

Microstructure and high temperature oxidation resistance of nickel based alloy GH4169 irradiated by high current pulsed electron beam

著者 (6件)： Lv Peng (School of Material Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, China) ,  Sun Xiao (Jingjiang College of Jiangsu University, Zhenjiang 212013, China) ,  Cai Jie (Institute of Advanced Manufacturing and Modern Equipment Technology, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, China) ,  Zhang Conglin (School of Material Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, China) ,  Liu Xinlin (College of Energy and Power Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, China) ,  Guan Qingfeng (School of Material Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, China)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 309  ページ： 401-409  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニッケル基超合金GH4169の表面を大電流パルス電子ビーム(HCPEB)を照射した。照射された試験片の酸化試験を空気中で900°Cで行った80時間であった。照射表面の微細構造進化と表面形態をX線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),および透過型電子顕微鏡(TEM)により分析した。XRDの結果は,ピークの幅は広がった傾向を持っていた,結晶粒微細化は急冷で得られたことを示した。ミクロ組織観察は,コンパクトな再融解層は,HCPEB照射後の試料表面上に形成された,主に100nm以下のサイズのナノ結晶であったことを明らかにした。に加えて,再融解層中に形成された高密度の転位と変形双晶。酸化試験後の観察は,20パルス化試料表面上の酸化物膜は初期試料表面上のそれよりもより連続的でコンパクトで,20パルス化試料表面の保護機構は外Cr_2O_3酸化膜と内部Al_2O_3酸化膜への外NiCr_2O_4スピネル層と内側のCr_2O_3酸化膜層の組合せ作用に変化したことを示した。結果は,照射した試料は,初期のもの,その中で20パルス化試料が最良の耐酸化性を持つよりもはるかに高い耐酸化性を持つことを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： パルス化 ,  透過型電子顕微鏡 ,  耐酸化性 ,  ナノ結晶 ,  結晶粒微細化 ,  *高温 ,  X線回折 ,  *酸化 ,  変形双晶 ,  走査電子顕微鏡 ,  *高温酸化 ,  スピネル
準シソーラス用語： 表面形態 ,  微細構造進展 ,  *パルス電子ビーム , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 高電流パルス電子ビーム(HCPEB) ,  ニッケル基超合金GH4169 ,  Microstructure ,  高温耐酸化性

分類 (3件)： 溶射  (WC08030N) ,  その他の表面処理  (WC08070F) ,  防食  (WB03040M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高電流 ,  パルス電子ビーム ,  ニッケル基合金 ,  GH4169 ,  微細構造 ,  耐高温酸化性