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J-GLOBAL ID：201702242586653188   整理番号：17A0102550

球状ミクロンダイヤモンドの調製過程とその場放出特性に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Preparation process and field emission properties of globular micron diamond

著者 (4件)： Gao Jinhai (College of Physics and Electronic Engineering,Zhengzhou Normal University) ,  Zhang Wuqin (College of Physics and Electronic Engineering,Zhengzhou Normal University) ,  Li Zhen (College of Physics and Electronic Engineering,Zhengzhou Normal University) ,  Zhang Binlin (Physics Engineering College,Zhengzhou University)
資料名： Yejing yu Xianshi  (Yejing yu Xianshi)
巻： 31  号： 9  ページ： 877-881  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1519A  ISSN： 1007-2780  CODEN： YYXIFY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 平面のセラミック基板上に,マグネトロンスパッタリング法を用いて一つのチタン合金層を作製した。金属欠陥層を表面欠陥処理した後、マイクロ波プラズマ化学気相堆積チャンバに入れ、直交実験方法を用いて、発射体の最適性能を有する薄膜を作製し、走査型電子顕微鏡、X線回折計、ラマンスペクトロメータなどの装置により、薄膜の表面形態、構造組成などを研究した。この薄膜は球状ミクロンダイヤモンド薄膜の結論である。さらに,最適電界放出薄膜の発光機構を研究した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 発光 ,  投射物体 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *薄膜 ,  チタン合金 ,  直交性 ,  走査電子顕微鏡 ,  表面欠陥 ,  電界放出 ,  X線回折計 ,  ダイヤモンド膜 ,  表面形態 ,  チャンバ ,  マイクロ波プラズマCVD ,  セラミック基板 ,  結晶学装置

著者キーワード (3件)： globularmicron diamond films ,  field emission ,  chemical vapor deposition

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 球状 ,  ダイヤモンド ,  調製 ,  過程 ,  放出 ,  研究