文献

J-GLOBAL ID：201702243670791538   整理番号：17A0346401

電力設備におけるSF_6混合絶縁ガス浄化浄化技術の検討【JST・京大機械翻訳】

Investigation into the Purification and Separation Technology for SF_6 Gas Mixtures Used in Electrical Apparatus

著者 (6件)： Liu Wei (SGCC Key Laboratory for Sulfur Hexafluoride Gas Analysis and Purification, SGCC Anhui Electric Power Research Institute) ,  Su Zhenxi (SGCC Key Laboratory for Sulfur Hexafluoride Gas Analysis and Purification, SGCC Anhui Electric Power Research Institute) ,  Qi Jiong (SGCC Key Laboratory for Sulfur Hexafluoride Gas Analysis and Purification, SGCC Anhui Electric Power Research Institute) ,  Cheng Wei (SGCC Key Laboratory for Sulfur Hexafluoride Gas Analysis and Purification, SGCC Anhui Electric Power Research Institute) ,  Ma Fengxiang (SGCC Key Laboratory for Sulfur Hexafluoride Gas Analysis and Purification, SGCC Anhui Electric Power Research Institute) ,  Zhu Feng (SGCC Key Laboratory for Sulfur Hexafluoride Gas Analysis and Purification, SGCC Anhui Electric Power Research Institute)
資料名： Gaoya Dianqi  (Gaoya Dianqi)
巻： 52  号： 12  ページ： 227-231  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1477A  ISSN： 1001-1609  CODEN： GADIE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： SF_6ガスの温室効果と低温ガス化の問題を解決するために,SF_6/N_2とSF_6/CF_4の混合絶縁ガスは現在最も有望な代替媒体であると考えられている。ガス遮断器(GIC)やガスパイプライン(GIL),GISバスなどの非滅弧ガス室での応用が開始されている。しかし、大規模な応用の前に、混合ガスの回収、浄化処理などの肝心な問題を解決しなければならない。SF_6混合ガスと純SF_6ガスとの間に大きな違いがあるため、SF_6/N_2とSF_6/CF_4混合絶縁ガスの特性に対して、多段高分子膜、深冷相変分離と低温蒸留方法を併用した混合ガス分離浄化方法を提案した。処理後,高純度のSF_6ガスとCF_4ガスが得られ,N_2純度は99%に達し,大気に直接排出された。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 高分子膜 ,  低温 ,  蒸留 ,  ガス化 ,  円弧 ,  媒質 ,  混合気体 ,  温室効果 ,  純度 ,  ガス遮断器 ,  *電気設備 ,  高純度 ,  ガスパイプライン
準シソーラス用語： *ガス浄化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： SF_6 mixture ,  purification and separation technology ,  polymeric membrane separation ,  cryogenic separation ,  cryogenic distillation

分類 (1件)： 絶縁材料  (NA04030W)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電力設備 ,  絶縁 ,  ガス浄化 ,  浄化