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J-GLOBAL ID:201702244880883013   整理番号:17A0831370

マルチスケール超疎水性Al膜の作製のための化学的エッチングと電気泳動堆積の組合せ【Powered by NICT】

Combination of chemical etching and electrophoretic deposition for the fabrication of multi-scale superhydrophobic Al films
著者 (5件):
資料名:
巻: 196  ページ: 115-118  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0935A  ISSN: 0167-577X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,著者らはHCl/H_2O_2エッチングと電気泳動堆積法の組合せによる超疎水性Al膜を作製する新しい方法を報告した。この二段階法により,マルチスケール階層構造を表面に導入することに成功した。疎水化後,得られた表面は169.6°の水接触角と約の滑り角1°の優れた超疎水性を示した。さらに,表面は優れた機械的耐久性を示し,超疎水性を失うことなく60cmの8kPa下で摩耗試験に耐えることができた。も長期間の空気または水に曝露された場合に超疎水性を維持した。本研究では,機械的にロバストで安定な超疎水性Al合金表面を調製するためのコスト効率的な方法を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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固-液界面 

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