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J-GLOBAL ID:201702245858991929   整理番号:17A0749551

層状構造ビスマスアンチモンテルリド熱電膜のvan der Waalsエピタクシーのためのグラフェン基板【Powered by NICT】

Graphene Substrate for van der Waals Epitaxy of Layer-Structured Bismuth Antimony Telluride Thermoelectric Film
著者 (7件):
資料名:
巻: 29  号:ページ: ROMBUNNO.201604899  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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2D層状物質のvan der Waalsエピタクシー用の基板としてのグラフェンは層状構造熱電膜のエピタキシャル成長に利用されている。簡単かつスケーラブルな製造法により合成したグラフェンのvan der WaalsエピタキシャルBi_0 5Sb_1 5Te_3膜は良好な結晶性と単結晶に匹敵する高い熱電輸送特性を示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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固-気界面一般  ,  半導体薄膜  ,  半導体の結晶成長 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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