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J-GLOBAL ID：201702246115217116   整理番号：17A0406941

Hf/CoFeB/MgO/Ta膜における垂直磁気異方性に及ぼすHf層厚さの影響【Powered by NICT】

The impact of Hf layer thickness on the perpendicular magnetic anisotropy in Hf/CoFeB/MgO/Ta films

著者 (15件)： Li Minghua (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, People’s Republic of China) ,  Li Minghua (Department of Electrical Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA) ,  Lu Jinhui (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, People’s Republic of China) ,  Akyol Mustafa (Department of Electrical Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA) ,  Akyol Mustafa (Department of Physics, University of Cukurova, Adana 01330, Turkey) ,  Chen Xi (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, People’s Republic of China) ,  Shi Hui (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, People’s Republic of China) ,  Han Gang (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, People’s Republic of China) ,  Shi Tong (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, People’s Republic of China) ,  Yu Guanghua (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, People’s Republic of China) ,  Ekicibil Ahmet (Department of Physics, University of Cukurova, Adana 01330, Turkey) ,  Kioussis Nick (California State University, Northridge W. M. Keck Computational Materials Theory Center, Los Angeles, CA 91330, USA) ,  Ong P.V. (California State University, Northridge W. M. Keck Computational Materials Theory Center, Los Angeles, CA 91330, USA) ,  Amiri Pedram Khalili (Department of Electrical Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA) ,  Wang Kang L. (Department of Electrical Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 694  ページ： 76-81  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 磁気異方性に及ぼすHf層の厚さの影響は,磁気トンネル接合(MTJ)で一般的に使用されるHf/CoFeB/MgO/Ta多層膜に対して評価した。Hfの厚さは,著者らが構造における~1.5nmよりも大きい場合に面外方向に面内から容易軸磁化転移が観測された。,臨界Hf層の厚さは,MTJの使用に必要な特性を維持するCoFeB/MgO界面に強い垂直磁気異方性が存在する。もX線光電子分光法(XPS),高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM),およびX線回折(XRD)を行う種々の厚さのHf層を持つHf/FeCoB/MgO/Ta多層膜の磁気異方性に及ぼす膜組成,化学状態,及び結晶化の影響を研究した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線回折 ,  多層膜 ,  界面 ,  *ハフニウム ,  磁化 ,  X線光電子分光法 ,  *磁気異方性 ,  結晶化 ,  臨界 ,  *酸化マグネシウム ,  *垂直磁気異方性
準シソーラス用語： 化学状態 ,  HRTEM ,  磁気トンネル接合 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： Hf ,  CoFeB ,  垂直磁気異方性

分類 (2件)： 磁気的性質  (WB02020J) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： HF ,  MgO ,  Ta膜 ,  垂直磁気異方性 ,  厚さ