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J-GLOBAL ID:201702248680192082   整理番号:17A0406008

O_3/グラフェンベース材料触媒プロセスの評価:pH効果とイオプロミドの除去【Powered by NICT】

Evaluation of the O3/graphene-based materials catalytic process: pH effect and iopromide removal
著者 (10件):
資料名:
巻: 282  号: P1  ページ: 77-85  発行年: 2017年 
JST資料番号: T0363A  ISSN: 0920-5861  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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グラフェン系材料,酸化グラフェン(GO),その還元グラフェン酸化物(rGO)および非酸化グラフェン(nOG)を含む水溶液中の触媒オゾン処理を評価した。触媒オゾン処理のための評価したグラフェン系材料の中で,rGOの高電子移動度は,ヒドロキシルラジカル(OH)にO_3の形質転換を防ぐためrGO触媒プロセスをオゾン(O_3)/グラフェン系材料に適用するために不適切であることを確認した。一方,表面に十分な含酸素官能基を持つGOはO_3とOHの大部分を分解し,生成した。O_3/nOGプロセスはO_3/GOプロセスよりも低い量のOHを生成したが,nOGた・OHへのO_3の変換収率に対するGOより有効であった。nOGはバルク相だけでなく,触媒オゾン処理におけるnOGの表面上のOHを生成できた。しかし,イオプロミド(IPM)はO_3/nOGプロセスよりもバルク相中のより多くのOH生成に起因するO_3/GO過程で効果的に除去された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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