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J-GLOBAL ID：201702249146109155   整理番号：17A0581413

fasiglifam(TAK-875)合成中間体の触媒的不斉水素化反応の開発:触媒量の低減への道のり

Development of a Ruthenium Catalyzed Asymmetric Hydrogenation for fasiglifam (TAK-875)process: An Approach to the Trace Catalyst Loading

著者 (6件)： 山田雅俊 (武田薬品工業) ,  後藤充孝 (武田薬品工業 日本・アジア光工場) ,  小西隆博 (武田薬品工業) ,  山下真之 (武田薬品工業) ,  近藤裕一郎 (ATTO) ,  山野光久 (武田薬品工業)
資料名： 有機合成化学協会誌  (Journal of Synthetic Organic Chemistry, Japan)
巻： 75  号： 5  ページ： 432-440  発行年： 2017年05月01日 
JST資料番号： F0383A  ISSN： 0037-9980  CODEN： YGKKAE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： キラル低分子化合物のひとつであるファシグリファム(TAK-875)は3位に不斉炭素をもつキラルなジヒドロベンゾフラン環を有し,今まで光学分割法で光学活性体を得ていた。さらなる効率的な合成経路を探索するための創薬研究の過程開発のために,ベンゾフラン誘導体を基質としたロジウム触媒を用いる不斉水素化反応を開発した。そして創薬研究での合成ルートにおいてここでは(S)-2-(6-ヒドロキシ-2,3-ジヒドロベンジフラン-3-イル)酢酸メチルは,ファシグリムだけでなく数多くの医薬品候補化合物の合成に威力を発揮した。以下不斉水素化反応のプロセス開発(ジアステレオマ塩の探索,第一世代の工業的不斉水素化法の確立,第二世代の工業的不斉水素化法の開発)を報告した。この第二世代での基質の検討に続き,精製条件の設定,反応温度の設定,溶媒中の溶存酸素濃度の影響,および実製造への適用とコスト削減などを克服することによる不斉触媒の使用料の極限にまで低減させる戦略に言及した。

シソーラス用語： 合成中間体 ,  *触媒反応 ,  *不斉反応 ,  *水素化 ,  ジアステレオマ ,  精製 ,  反応温度 ,  溶存酸素 ,  *原価低減 ,  ロジウム触媒 ,  光学分割 ,  *不斉触媒 ,  不斉触媒反応 ,  不斉水素化 ,  *減少 ,  *変化

分類 (1件)： 酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (5件)： (3S)-6-ヒドロキシ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-3-酢酸 ,  2-[(3S)-6-ヒドロキシ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-3-イル]酢酸メチル ,  6-ヒドロキシベンゾフラン-3-酢酸 ,  TAK-875 ,  ファシグリファム

引用文献 (21件)：

• 1) H. Takahashi, H. Natsugari, Pharm. Tech. Japan, 31, 2663 (2015)
• 2) (a) R. Noyori, M. Kitamura, T. Ohkuma, PNAS, 101, 5356 (2004)
• (b) 大熊毅,ファルマシア,51, 295 (2015)
• 3) (a) M. Goto, T. Konishi, S. Kawaguchi, M. Yamada, T. Nagata, M. Yamano, Org. Process Res. Dev., 15, 1178 (2011)
• (b) S. Rodríguez, B. Qu, K. R. Fandrick, F. Buono, N. Haddad, Y. Xu, M. A. Herbage, X. Zeng, S. Ma, N. Grinberg, H. Lee, Z. S. Han, N. K. Yee, C. H. Senanayake, Adv. Synth. Catal., 356, 301 (2014)

タイトルに関連する用語 (5件)： TAK-875 ,  合成中間体 ,  触媒 ,  不斉水素化 ,  開発