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J-GLOBAL ID：201702249895990820   整理番号：17A0226166

Au(111)上への六方晶系および正方晶系ヘキサブロモベンゼン充填の競合

Competition between Hexagonal and Tetragonal Hexabromobenzene Packing on Au(111)

著者 (11件)： HUANG Han (Central South Univ., Hunan, CHN) ,  HUANG Han (National Univ. Singapore, Singapore, GBR) ,  TAN Zhiyu (Central South Univ., Hunan, CHN) ,  HE Yanwei (Central South Univ., Hunan, CHN) ,  LIU Jian (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  SUN Jiatao (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  ZHAO Kang (Central South Univ., Hunan, CHN) ,  ZHOU Zhenhong (Central South Univ., Hunan, CHN) ,  TIAN Guo (Central South Univ., Hunan, CHN) ,  WONG Swee Liang (Agency for Sci. Technol. and Res., Singapore, GBR) ,  WEE Andrew Thye Shen (National Univ. Singapore, Singapore, GBR)
資料名： ACS Nano  (ACS Nano)
巻： 10  号： 3  ページ： 3198-3205  発行年： 2016年03月 
JST資料番号： W2326A  ISSN： 1936-0851  CODEN： ANCAC3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低温走査型トンネル顕微鏡観察と密度汎関数計算によってAu(111)上へのヘキサブロモベンゼン(HBB)分子の結晶成長を研究した。室温近傍では,基板が媒介したBrの非共有結合によってHBBは六方晶最密充填配列に自己集合したが,330K近傍ではHBBとAu間の引力が高まり,HBBによってAuアドアトムが捕捉されて正方晶系の配列部分が生じた。分子-基板間の界面相互作用には部位特異性があり,HBBはブリッジ部位に吸着していた。分子間相互作用と界面相互作用は熱的にあまり安定ではなく,更に高温域では,準六方晶の形成を経た後にHBBが無秩序にAu(111)のテラス部位表面から脱落した。相互作用の競合が分子充填を決定するという今回の知見は今後の研究に有益である。

シソーラス用語： *六方晶系 ,  *正方晶系 ,  *顕微鏡観察 ,  *密度汎関数法 ,  *金 ,  化学結合 ,  結晶構造 ,  充填 ,  自己集合 ,  *分子間相互作用 ,  *相互作用 ,  性質 ,  競争力 ,  配列 ,  温度依存性 ,  芳香族臭素化合物
準シソーラス用語： ハロゲン結合 ,  *界面相互作用 ,  最密充填 ,  *走査型トンネル顕微鏡観察 ,  部位特異性 ,  分子配列

分類 (3件)： 芳香族単環ハロゲン化合物  (CF05030H) ,  芳香族化合物の結晶構造  (BK08020F) ,  分子間相互作用  (BH07020P)

物質索引 (1件)： ヘキサブロモベンゼン

タイトルに関連する用語 (5件)： Au ,  六方晶系 ,  正方晶系 ,  ヘキサブロモベンゼン ,  競合