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J-GLOBAL ID:201702251115894567   整理番号:17A0400625

レーザ干渉アブレーションによって直接作製したサブミクロンスケールの2Dperiodic構造をもつ高効率GaN LED【Powered by NICT】

High efficiency GaN LEDs with submicron-scale 2Dperiodic structures directly fabricated by laser interference ablation
著者 (8件):
資料名:
巻: 90  ページ: 211-215  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0245B  ISSN: 0030-3992  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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レーザ干渉による青色GaN発光ダイオード(LED)のp層上のサブミクロンスケールの2次元周期構造法を直接の研究を報告した。GaN LEDのp層表面上の六方晶格子構造を三ビームレーザ干渉により作製し,空気孔半径はレーザフルエンスを調整することにより変えることができる。周期400nm,180nmの正孔半径,深さ78nmの構造は215mJ/cm~2のレーザフルエンスでパターン化した。実験結果はシミュレーションとよく一致し,パターン化LEDは平面LEDと比較して光出力電力の55.7%の最大の増強を得ることを明らかにした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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発光素子 

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