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J-GLOBAL ID：201702251627860759   整理番号：17A0605665

F^-+CH₃CH₂I反応におけるE2(二分子脱離反応)とS_N2(二分子求核置換反応)競合機構

Competing E2 and S_N2 Mechanisms for the F^- + CH₃CH₂I Reaction

著者 (7件)： YANG Li (Harbin Inst. of Technol., Harbin, CHN) ,  ZHANG Jiaxu (Harbin Inst. of Technol., Harbin, CHN) ,  XIE Jing (Univ. Minnesota, Minnesota, USA) ,  MA Xinyou (Texas Tech Univ., Texas, USA) ,  ZHANG Linyao (Harbin Inst. of Technol., Harbin, CHN) ,  ZHAO Chenyang (Harbin Inst. of Technol., Harbin, CHN) ,  HASE William L. (Texas Tech Univ., Texas, USA)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 121  号： 5  ページ： 1078-1085  発行年： 2017年02月09日 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 化学反応 ,  化合物 ,  アニオン ,  *脱離反応 ,  SN2反応 ,  競争反応 ,  *反応機構 ,  *気相反応 ,  計算 ,  遷移状態 ,  異性化 ,  ポテンシャル障壁 ,  高さ ,  反応経路 ,  RRKM理論 ,  脂肪族ヨウ素化合物 ,  脂肪族臭素化合物 ,  脂肪族塩素化合物 ,  フロン
準シソーラス用語： 反応物 ,  *フッ素イオン ,  *二分子求核置換反応 ,  *競合反応 ,  電子構造計算 ,  cis-trans異性化 ,  反応障壁 ,  障壁高さ

分類 (6件)： 脂肪族ハロゲン化合物  (CF03050P) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  置換反応  (CF02020B) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  分子の立体配置・配座  (BH05022J) ,  荷電体衝撃・放電による反応  (CB06020R)

物質索引 (4件)： よう化エチル ,  臭化エチル ,  塩化エチル ,  フッ化エチル

タイトルに関連する用語 (3件)： 脱離反応 ,  二分子求核置換反応 ,  競合