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J-GLOBAL ID：201702251864320625   整理番号：17A0198209

撹はん層反応器におけるSiCl_4SiHCl_3への水素化に関する実験的研究【Powered by NICT】

Experimental Study on Hydrogenation of SiCl_4 to SiHCl_3 in a Stirred Bed Reactor

著者 (3件)： Li Qingyuan (Dept. Chem. Eng., Tsinghua University) ,  Li Peilong (Dept. Chem. Eng., Tsinghua University) ,  Wang Tiefeng (Dept. Chem. Eng., Tsinghua University)
資料名： Guocheng Gongcheng Xuebao  (Guocheng Gongcheng Xuebao)
巻： 16  号： 5  ページ： 767-773  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0401B  ISSN： 1009-606X  CODEN： CJPEB5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiCl_4SiHCl_3への水素化はCuCl触媒を用いた撹はん層反応器中で調べた。反応前後のCuClcatalystsとシリコン粒子の特性をSEM,XRDおよびXPSによって特性化した。XRDはCu_3Siのactivecomponentは反応中に形成され,EDXは開口領域に及ぼすCuとSiのモル比を証明したことを示した。Cuの原子価は,水素反応の前後でXPSにより検討した。反応温度,圧力,H_2SiCl_4へのモル比,単位時間当たりの重量空間速度(WHSV),及び触媒量の影響を調べた。結果はSiCl_4の変換率は190Nm~3/(t×h)のWHSV,温度540°C,圧力1.8MPa,触媒負荷0.9%(w),H_2SiCl_41に.7:1のモル比で約38%であったことを示した。experemental結果に基づいて,反応機構を提案した,これはシリコン(SEM画像に示された多くの開口)のcontinuousconsumptionと水素化反応中の新しいCu_3Si活性成分の形成を含んでいた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： モル比 ,  塩化銅 ,  空間速度 ,  キャラクタリゼーション ,  原子価 ,  開口 ,  *水素化 ,  *水素 ,  ケイ素 ,  銅 ,  反応温度 ,  X線回折 ,  *撹拌
準シソーラス用語： SEM画像 ,  *実験研究 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 四塩化けい素 ,  トリクロロシラン ,  hydrogenation ,  撹はん層反応器

分類 (1件)： その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 撹はん ,  反応器 ,  水素化 ,  実験的研究