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J-GLOBAL ID:201702251956622858   整理番号:17A0532315

CRALN/WS_2ナノ多層膜の微細構造と機械的性質を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Study on microstructure and mechanical properties of CrAlN/WS_2 nanomultilayered films
著者 (9件):
資料名:
巻: 47  号: 12  ページ: 12118-12123  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2095A  ISSN: 1001-9731  CODEN: GOCAEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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反応性マグネトロンスパッタリング法を用いてSI基板上に異なる変調周期を有するCRALN/WS_2ナノ多層膜を堆積させた。X線回折(XRD),高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM),ナノ,およびHSR-2M被覆の摩耗試験機と走査型電子顕微鏡(SEM)を使用した。CRALN/WS_2ナノ多層膜の微細構造と機械的性質に及ぼす変調周期の影響を研究した。その結果,WS_2層の厚さが0.8NM以下の場合,六方晶構造のWS_2が皮のテンプレート作用の下でB1-NACLの面心立方構造に変化し,皮層とエピタキシャル成長しWS_2層の厚さが0.8NMのとき,膜の硬度と弾性係数は,それぞれ,37.3と341.2GPAであった。WS_2層の厚さの増加とともに,WS_2は,六方晶構造に変化し,そして,結晶構造は,破壊され,そして,結晶度は減少し,耐摩耗性は増加し,そして,CRALN/WS_2ナノ多層膜の摩擦係数は0.2~0.3の範囲であり,単一層の摩擦係数の0.6よりも低く,摩耗率も明らかに減少した。優れた機械的性質を有するCRALN/WS/SIO_2多層膜を得た。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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半導体のルミネセンス  ,  原子・分子のクラスタ 
タイトルに関連する用語 (4件):
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